Wie US-Medien berichten, will
Intel
die nächste Technologie-Generation in der
Halbleiterfertigung überspringen. Der Konzern will keine Geräte für die
157-Nanometer-Lithografie zur Produktion von 45-Nanometer-Strukturen
anschaffen. Statt dessen plant das Unternehmen seine bestehenden
Produktionsanlagen länger zu nutzen und setzt für die Zukunft auf "Extrem
Ultraviolett" (EUV).
Strukturgröße von 45 Nanometern
Die Strukturen von Chips werden mit Hilfe eines optischen Verfahrens auf
dem Trägermaterial aus Silizium abgelichtet. Je feiner die Strukturen, um
so kürzer muss die Wellenlänge des verwendeten Lichts sein.
Halbleiterprodukte mit einer Strukturgröße von 45 Nanometern werden
voraussichtlich 2007 in Produktion gehen. Anstelle der vorgesehenen
Lithografie-Tools mit einer Wellenlänge von 157 Nanometern will der
Konzern seine bestehenden Geräte, die bei der Belichtung der Chips mit
einer Wellenlänge von 193 Nanometern arbeiten, mit speziellen
Linsensystemen aufrüsten.
Intels Entscheidung kann weitreichende Konsequenzen für die
Halbleiterindustrie zur Folge haben. Kein Unternehmen ist wegen der hohen
Kosten in der Lage, die notwendigen Produktionstechnologien für die
nächste Halbleitergeneration alleine entwickeln. Laut
EE Times
befürchten nun viele Vertreter aus der
Halbleiterindustrie, dass Intels Entscheidung für die teurere
EUV-Technologie das Ende für 157-Nanometer-Lithografie bedeutet und damit
kleinere Unternehmen an die Wand drängen könnte. (pte)