Drei große japanische Elektronikkonzerne erwägen eine Zusammenarbeit bei der Chipproduktion. Wie die Konzerne Hitachi, Toshiba und Renesas Technology mitteilten, geht es um den Bau einer Fabrik für die nächste Chip-Generation.

Einzelheiten

Über Einzelheiten sei noch keine Entscheidung gefallen, hieß es am Mittwoch. Experten halten eine solchen Schritt für nötig, damit die japanischen Firmen gegen Branchenriesen wie Intel bestehen können.

Weitere Hersteller sollen gewonnen werden

Die Wirtschaftszeitung "Nihon Keizai Shimbun" berichtete, die drei Firmen seien daran interessiert, weitere Hersteller wie Matsushita Electric Industrial und NEC Electronics für das Projekt zu gewinnen.

Zum Aufbau einer neuen Produktionsstätte sollten umgerechnet bis zu 714 Mio. Euro investiert werden. Im Jänner solle eine Machbarkeitsstudie erstellt werden, 2007 die Produktion beginnen.

Dem Zeitungsbericht zufolge soll das neue Unternehmen LSI- Systemchips mit einer Schaltkreis-Breite von höchstens 65 Nanometern produzieren. Die meisten Halbleiter-Fabriken verwenden derzeit eine Breite von 90 Nanometern.

Fein

Je feinmaschiger die Strukturen sind, desto mehr Chips können die Hersteller aus den Siliziumscheiben gewinnen und so ihre Produktionskosten senken. Ein Nanometer ist ein milliardstel Meter.

Der weltgrößte Chiphersteller Intel hatte Anfang des Monats angekündigt, in Israel eine Fabrik mit der 45-Nanometer-Technologie zu bauen. (APA/sda/Reuters)