Foto: Frauenhofer-Institut
Aachen - In wenigen Jahren sind die Grenzen der optischen Belichtungstechnik endgültig ausgereizt. Als aussichtsreichster Kandidat für eine neue Lithographie gilt extreme ultraviolette (EUV) Strahlung mit Wellenlängen von elf bis 14 Nanometern, schreibt das Fraunhofer-Institut in der neuen Ausgabe seines Magazin. Extreme Ultraviolette "EUV ist die Belichtungstechnologie für den Pentium 10", so Professor Reinhart Poprawe, Leiter des Fraunhofer-Instituts für Lasertechnik ILT . Die bisherige optische Lithographie stoße bald an Grenzen, die sich nicht weiter hinausschieben ließen. Wolle die Chipindustrie an ihrem raschen Tempo zu immer kleineren Strukturen festhalten, müsse sie den großen Technologiesprung hin zu einer neuen Lithographie wagen. So löse EUV voraussichtlich die heutige Prozesstechnologie ab. Vor vier Jahren gründeten Intel, Motorola und AMD ein Konsortium, um EUV zur Serienreife zu bringen - inzwischen sind mit IBM, Infineon und Micron alle wichtigen Halbleiterhersteller im Club der Extremen Ultravioletten vertreten. Vor der Einsatzreife der EUV-Lithographie stehen laut Fraunhofer Institut aber noch einige Hürden: Vor allem müsse eine völlig neue Spiegeloptik entwickelt werden, die auf diese Wellenlänge angepasst ist. Ein großes Wachstumspotenzial steckt in der Lithographie zur Chipherstellung: Das Weltmarktvolumen wird derzeit allein für Laser auf etwa 800 Mio. Mark geschätzt. Bis zum Jahr 2005 ist mit einer Verdoppelung zu rechnen. Das Marktvolumen für die Optik liegt sogar 1,6 Mrd. Mark; das Volumen für die Waferbelichter bei 6,2 Mrd. Mark. (pte)